旋轉(zhuǎn)鉻靶Cr

化學(xué)式：Cr                                                                    成型工藝：噴涂

密度：≥6.47g/cm³                                                       純度：≥99.5%

應(yīng)用：用于制作Cr及CrNO膜，主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜，LOW-E鍍膜玻璃，半導(dǎo)體電子

最大加工尺寸：長度：4000MM厚度：6-10MM，直型、狗骨型，按客戶要求定做

??旋轉(zhuǎn)硅靶Si?

化學(xué)式：Si                                                                  電阻率（20℃）：0.01-400Ω.cm

成型工藝：噴涂                                                           密度：≥2.26g/cm3（≥96%）

純度：≥99.9%

應(yīng)用：用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光學(xué)玻璃，觸摸屏之AR膜系，LOW-E鍍膜玻璃，半導(dǎo)體電子，平面顯示，觸摸屏

最大加工尺寸：長度：4000MM厚度：6-10MM，直型、狗骨型，按客戶要求定做