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化學(xué)式：Al Alloy 成型工藝：擠壓 密度：≥2.7g/cm3（≥97%） 電阻率（Resistivity）（20℃）：<0.028 ohm.cm 純度：99.9% 應(yīng)用：廣泛用于光學(xué)玻璃，觸摸屏玻璃膜系，導(dǎo)電玻璃，TF T-LCD，觸摸屏，半導(dǎo)體電子 最大加工尺寸：長度L2500*寬度W300*厚度T25mm，多片拼接幫定在銅背板上，按客戶要求定做
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化學(xué)式：MoNb 成型工藝：燒結(jié)擠壓 密度：≥9.7g/cm3（≥97%） 電阻率（Resistivity）（20℃）：<0.187 ohm.cm 純度：99.95% 應(yīng)用：廣泛用于光學(xué)玻璃，觸摸屏玻璃膜系，導(dǎo)電玻璃，TF T-LCD，觸摸屏，半導(dǎo)體電子 最大加工尺寸：長度L1500*寬度W300*厚度T10mm，多片拼接幫定在銅背板上，按客戶要求定做
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化學(xué)式：NiCr 成型工藝：真空熔煉（Vacuum Melting） 密度：≥8.2g/cm3（≥99.5%） 成分（Proportion）：60：40wt%/80：20wt% 純度：99.9% 應(yīng)用：廣泛用于各類裝飾鍍膜，光學(xué)膜系，建筑汽車玻璃膜系，Low-E玻璃 最大加工尺寸：L1500*W280*T28mm
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